최근 전기전자 산업의 규모가 증가함에 따라 반도체 및 디스플레이 제조공정에서 초순수의 수요가 늘어나고 있다. 원수는 초순수의 수질 조건을 충족하기 위해 정수처리, 역삼투압, 광산화 등 다양한 공정을 거치게 되는데, 이때 광산화 공정에서 발생하는 과산화수소가 문제가 될 수 있다. 광산화 공정의 경우 수중 용존 유기탄소를 효과적으로 제거하기 위해 185 nm와 254 nm 파장의 빛이 나오는 VUV/UV 램프를 사용하는데, 185 nm 빛에 의해 물이 분해되어 발생되는 수산화라디칼이 재결합하여 과산화수소가 생성된다. 과산화수소는 생산수에 잔류할 시 제품의 품질에 악영향을 줄 수 있다. 본 연구에서는 초순수 제조용 광산화 공정에 Photo-Fenton 반응을 적용하여 공정 중 발샐하는 과산화수소를 제거하고 Bulk phase에서의 수산화라디칼 생성을 가속화하여 유기물의 광산화 성능을 개선하는 방안을 제시하려고 한다.