초순수(UPW)는 반도체 산업을 비롯한 다양한 산업에서 필수적인 공정 요소로서, 그 수요가 지속적으로 증가하고 있습니다. 초순수 생산에는 수돗물, 지표수, 폐수 등 다양한 수원이 사용되며, 이들 수원에는 저분자 유기물(LMOM)이 포함되어 있어, UPW 생산시설에서는 이를 효과적으로 제어하는 데 어려움을 겪고 있습니다. VUV/UV 공정에서 사용되는 VUV/UV 램프는 185nm와 245nm 파장의 빛을 방출하여 용존 유기탄소를 제거하는 역할을 하지만, 185nm 빛은 물을 다양한 라디칼로 분해하여 과산화수소(H₂O₂)를 생성할 수 있습니다. 이는 반도체 제조 과정에서 품질 저하를 유발할 수 있으므로, VUV/UV 공정에서 과산화수소 발생 메커니즘을 이해하고 이를 제어하는 것이 중요합니다. 본 연구에서는 VUV/UV 공정에서 아세트로니트릴과 메탄올을 포함한 다양한 저분자 유기물의 종류와 농도, 그리고 pH가 과산화수소 생성에 미치는 영향을 분석했습니다. 연구 결과, 저분자 유기물의 농도가 증가할수록 과산화수소 발생량이 증가하였으며, 대부분의 경우 pH가 높아질수록 과산화수소 생성이 감소하는 경향을 보였습니다. 이를 통해 VUV/UV 공정 도입 시 저분자 유기물 제거와 pH 조절이 과산화수소 생성을 억제하는 데 중요한 역할을 한다는 것을 알 수 있으며, 이를 통해 VUV/UV 공정에서 과산화수소 생성을 효과적으로 제어함으로써 초순수의 품질을 향상시키는 데 기여할 수 있는 기초 자료를 제공합니다.